Разработка первого отечественного 90-нм литографа в России

В 2026 году в России начнется разработка первого литографа, который будет производить микросхемы по технологии 90 нанометров. Об этом сообщил заместитель министра промышленности страны в конце марта. На данный момент в России уже разработан литограф на 350 нм, а также проводится работа над 130-нм моделью. Это инициатива является частью программы импортозамещения, которая была запущена в 2022 году. Ожидается, что в течение 2-3 лет будет завершена разработка 90-нм литографа, который будет использован для производства разнообразных микросхем, таких как чипы для интернета вещей (IoT), автоэлектроники, RFID-меток и других. Главным разработчиком является Зеленоградский нанотехнологический центр, который активно работает над созданием полного цикла производственных процессов без зависимости от зарубежного оборудования. В марте 2026 года генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев заявил, что уже заключены контракты на поставку новых машин и ведется отработка технологий. С учетом устойчивого финансирования, создание доступных российских литографов создаёт хорошую основу для дальнейшего развития микроэлектроники в стране.