Китай создал прототип литографа для чипов

Китайская полупроводниковая индустрия достигла важной вехи, представив прототип литографа для экстримального ультрафиолета (EUV). Эта технология, ранее находившаяся под контролем голландской фирмы ASML, играет ключевую роль в производстве современных процессоров. США прилагали усилия, чтобы предотвратить передачу этой технологии Китаю, однако новые данные указывают на значительный прогресс китайских инженеров. В последние годы компании, такие как SMIC, пытались воссоздать технологии ASML, проводя обратную разработку и привлекая экспертов. Для создания прототипа использовались устаревшие компоненты оборудования ASML. Несмотря на быстрый прогресс, серийное производство чипов с использованием EUV в Китае еще не начато, однако страна планирует масштабировать этот процесс к 2030 году. Данная ситуация развивается на фоне напряженного технологического соперничества между США и Китаем, особенно в свете роста искусственного интеллекта. Тем временем, Huawei совместно с SMIC активно развивает сеть производственных мощностей.